Die Möglichkeiten zur Rechnerunterstützung beim Layoutentwurf hybrider Schichtschaltungen, dem Bindeglied zwischen Leiterplatten- und Integrationstechnik, werden in einem verständlichen und umfassenden Überblick vorgestellt. Es ist beschrieben, wie die einzelnen Arbeitsschritte mit Hilfe neuer Algorithmen und Vorgehensweisen wesentlich unterstützt oder gar ganz automatisiert werden können. Die Widerstandsberechnung wird unter Berücksichtigung aller für die Dimensionierung wichtigen technologischen Einflüsse behandelt. Anschließend werden Grundlagen für die interaktive Plazierung und ein neuer Ansatz zur automatischen Verdrahtung vorgestellt. Der Prüfung und Weiterverarbeitung des Layouts dienen die vorgestellten neuen Verfahren der Entwurfsregelprüfung, Kompaktierung und Maskengenerierung. Alle Themen sind speziell auf die besonderen Anforderungen in der Hybridtechnik abgestimmt. Sowohl dem Entwickler als auch dem Anwender von CAD-Verfahren werden für alle Stufen im Layoutentwurf neue Lösungen vermittelt und an Beispielen erläutert. 1 Einleitung.- 1.1 Grundlagen der Hybridtechnologie.- 1.2 Entwurfsschritte bei der Layouterstellung für Hybridtechnologie.- 1.3 Stand der Technik auf dem Gebiet Rechnerunterstützung.- 1.4 Zielsetzung und Gliederung des Buches.- 2 Rechnerunterstützung Beim Elementeentwurf.- 2.1 Widerstandsentwurf.- 2.2 Kondensatoren.- 2.3 Induktivitäten.- 3 Interaktiver Layoutentwurf.- 3.1 Vorgehensweise beim interaktiven Piazieren und Verdrahten.- 3.2 Forderungen an ein interaktives Entwurfssystem.- 3.3 Datenstrukturen zur Repräsentation von Layoutbildern.- 4 Automatische Verdrahtung.- 4.1 Verdrahtungshilfen bei interaktiven Eingriffen.- 4.2 Vollautomatische Verdrahtung mit einem Standardverfahren.- 4.3 Angepaßtes Gitter für eine rastergebundene Verdrahtung.- 4.4 Neues rasterfreies Zonensuchverfahren.- 5 Entwurfsregelprüfung.- 5.1 Geometrische Entwurfsregeln.- 5.2 Prinzipielle Methoden der Layoutüberprüfung.- 5.3 Hilfsmittel zur Merkmalsgewinnung.- 5.4 Verfahren zur Prüfung der Merkmale.- 5.5 Komplexitätsbetrachtungen.- 5.6 Erzeugung neuer Maskenebenen.- 6 Kompaktierung.- 6.1 Verdichtung orthogonaler Strukturen.- 6.2 Verdichtung allgemeiner Polygone.- 6.2 Komplexitätsabschätzung.- 7 Maskenerzeugung.- 8 Layout-Beispiel.- 9 Zusammenfassung.
